Tower Semiconductorは7月14日、日本政府の支援を受け、日本国内で300mmシリコンフォトニクス(SiPho)、SiGe、先端光パッケージングの生産能力を拡大すると発表した。経済産業省が同日公表した供給確保計画の概要によると、対象は富山県魚津市と新潟県妙高市の拠点で、事業に必要な資金は約6000億円、最大助成額は約1600億円。AIデータセンター向け光接続需要の拡大を背景に、日本をSiPho/SiGeの先端製造拠点として強化する狙いだ。
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Tower Semiconductorは7月14日、日本政府の支援を受け、日本国内で300mmシリコンフォトニクス(SiPho)、SiGe、先端光パッケージングの生産能力を拡大すると発表した。経済産業省が同日公表した供給確保計画の概要によると、対象は富山県魚津市と新潟県妙高市の拠点で、事業に必要な資金は約6000億円、最大助成額は約1600億円。AIデータセンター向け光接続需要の拡大を背景に、日本をSiPho/SiGeの先端製造拠点として強化する狙いだ。
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