Samsung ElectronicsとASMLは、次世代半導体製造に向けた戦略的協業を拡大し、2028年までに高NA EUVをDRAMの量産へ導入する計画を発表した。また、高NA EUV向け12インチフォトマスクの業界イニシアティブにも参画し、メモリとファウンドリの双方で次世代露光技術の活用を進める。
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Samsung ElectronicsとASMLは、次世代半導体製造に向けた戦略的協業を拡大し、2028年までに高NA EUVをDRAMの量産へ導入する計画を発表した。また、高NA EUV向け12インチフォトマスクの業界イニシアティブにも参画し、メモリとファウンドリの双方で次世代露光技術の活用を進める。
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